濺射靶材是制備半導(dǎo)體的核心材料之一。半導(dǎo)體制備過(guò)程中，在晶圓制造及芯片封裝兩大環(huán)節(jié)均需用到濺射靶材。在晶圓制造環(huán)節(jié)，濺射靶材主要用于制作晶圓導(dǎo)電層、阻擋層以及金屬柵極，通常要求靶材純度在5N (99.999%)以上，主要使用銅靶材、鋁靶材、欽靶材、鉅靶材等，在芯片封裝環(huán)節(jié)，濺射靶材主要用于貼片焊線的鍍膜，多使用銅靶材、鋁靶材、欽靶材等靶材。

半導(dǎo)體行業(yè)常會(huì)見到一個(gè)詞，靶材，那么靶材是什么? 為什么靶材如此重要?今天我們就來(lái)說(shuō)說(shuō)靶材是什么?靶材是什么?簡(jiǎn)單地說(shuō)，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，通過(guò)更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鎳靶等)，即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。

目前，(純度)濺射靶材按照化學(xué)成分不同可分為

1) 金屬靶材(純金屬鋁、、銅、銀等)

2) 合金靶材(鎳鉻合金、鎳鉆合等)

3) 陶瓷化合物靶材(氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等).

按開關(guān)不同可分為:長(zhǎng)靶、方靶、圓靶

按應(yīng)用領(lǐng)域不同可分為:半導(dǎo)體芯片靶材、平面顯示器靶材、太陽(yáng)能電池靶材、信息存儲(chǔ)靶材、具改性靶材、電子器件靶材、其他靶材。

看到這里，大家應(yīng)該了解了高純?yōu)R射靶材，知道了金屬靶材的鋁、缽、銅、鉅，在半導(dǎo)體晶圓制造中，200mm(8寸)及以下晶圓制造通常以鋁制程為主，使用的靶材以鋁、達(dá)元素為主。300mm( 12寸)晶圓制造，多使用先進(jìn)的銅互連技術(shù)，主要使用銅、鉅靶材。

濺射靶材是制備半導(dǎo)體的核心材料之一。半導(dǎo)體制備過(guò)程中，在晶圓制造及芯片封裝兩大環(huán)節(jié)均需用到濺射靶材。在晶圓制造環(huán)節(jié)，濺射靶材主要用于制作晶圓導(dǎo)電層、阻擋層以及金屬柵極，通常要求靶材純度在5N(99.999%)以上，主要使用銅靶材、鋁靶材、欽靶材、鉅靶材等，在芯片封裝環(huán)節(jié)，濺射靶材主要用于貼片焊線的鍍膜，多使用銅靶材、鋁靶材、鐵靶材等靶材。

半導(dǎo)體用濺射靶材

半導(dǎo)體芯片行業(yè)是金屬濺射靶材的主要應(yīng)用領(lǐng)域之一，也是對(duì)靶材的成分、組織和性能要求最高的領(lǐng)域。具體來(lái)講，半導(dǎo)體芯片的制作過(guò)程可分為硅片制造、晶圓制造和芯片封裝等三大環(huán)節(jié)，其中，在晶圓制造和芯片封裝這兩個(gè)環(huán)節(jié)中都需要用到金屬濺射靶材。

半導(dǎo)體用濺射靶材

半導(dǎo)體芯片用金屬濺射靶材的作用，就是給芯片上制作傳遞信息的金屬導(dǎo)線。具體的濺射過(guò)程: 首先利用高速離

子流，在高真空條件下分別去轟擊不同種類的金屬濺射靶材的表面，使各種靶材表面的原子一層一層地沉積在半導(dǎo)體

芯片的表面上，然后再通過(guò)的特殊加工工藝，將沉積在芯片表面的金屬薄膜刻蝕成納米級(jí)別的金屬線，將芯片內(nèi)部數(shù)

以億計(jì)的微型晶體管相互連接起來(lái)，從而起到傳遞信號(hào)的作用。